Компания SK hynix внедрила EUV-литографию для производства микросхем оперативной памяти

Как стало известно, в компании SK hynix наладили массовое производства микросхем, отвечающих за оперативную память в электронных устройствах, используя EUV-литографию.

При этом продукт считается выпущенным по техпроцессу 10 нм, что, в целом, соответствует современным требованиям к микросхемам такого рода.

Эксперты напоминают, что до сих пор производители почему-то избегали использовать именно эту технологию, хотя у нее есть ряд важных преимуществ. Например, из стандартной кремниевой пластины получается на 25% больше микросхем. При нынешнем дефиците материалов на рынке полупроводниковой продукции этот фактор нельзя игнорировать. Кроме того, выпущенные таким образом микросхемы стали потреблять на 20% меньше электроэнергии.